离子源技术
Photo of Litmas RPS 1501 and 3001 remote plasma source platform
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Litmas® RPS 1501和3001远程等离子源平台

Litmas® RPS 是唯一采用高传导、低表面面积结构的完全整合远程感应式等离子源和供电系统。非常适合为晶圆预清洗、光致抗蚀剂剥离和原子层沉积 (ALD) 等工艺提供反应气体。此外,其大功率密度和高传导性使其成为后处理废气治理的理想平台。
Litmas RPS 可在不到3毫秒的时间内提供高达3 kW 的稳定射频功率,从而能够实现90 nm 和300 nm制程的快速变化。
优势 特点
  • 减少了对易损设备结构的电荷损伤
  • 高反应活性物焊剂生成
  • 广泛的工艺化学范围
  • 快速匹配、稳定的供电
  • 持有成本降低
  • 增强终端用户工艺开发和输出量
  • 整合式电源、匹配和等离子腔室
  • 获得专利的 LitmasMatch™ 固态供电拓扑结构
  • 即插即用的安装
  • 极其广泛的匹配范围
  • 耐用的 SiO2 或 Al2O3 腔室材料
  • 尺寸小
  • 最高的等离子功率密度
  • 源与源之间的变化极小

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