Ascent® DMS 先进的双磁控靶溅射电源系统，30 - 180 kW
The Ascent® DMS 系列为双磁控靶溅射应用提供了前所未有的功率输出便利和控制能力，可以精确调控薄膜特性。具备可选的频率、调节模式、占空比以及低电弧储能和简洁的模块化系统配置、使 Ascent DMS 电源系统与众不同、成为新一代的双磁控靶溅射电源方案。依靠高性价比、可扩展性和多功能等特性、最大限度降低了设备复杂程度提高了镀膜质量与产能、从而实现高端的的工艺创新。
拥有Arc Management System™ 技术的 Ascent® 直流电源 .
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利益 |
特征 |
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提升了膜层价值：实现可重复的、创新、定制的的镀膜
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降低使用成本，提高镀膜产能
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降低先期设备投资
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更高的功率输出，更少的电弧破坏
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方便扩展、整合和技术支持
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模块化，可扩展（30、40 和 60 kW 机型可最高组合成 180 kW 功率输出）
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频率可选 ( 500 Hz - 50 kHz )
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功率、电流及电压模式控制
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占空比可调- 可以控制输入到每个磁控靶的功率
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单极和双极运行
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比其他任何双磁控靶溅射电源的电弧能量更低
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具备CEX功能（相位同步）
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符合 EU RoHS
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