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HFV® 变频 (~2 MHz) 电源
灵活的 HFV® 电源主要用作200和300 mm 晶圆制程、平板显示器和 DVD 设备的等离子发生器,为离子化物理气相沉积 (IPVD)、CVD 和蚀刻提供了工艺一致性。这种通用电源的特点有数字合成变频输出和微处理器控制,输出功率电平为3、5和8 kW。此外,其输出频率范围为1.765-2.165 MHz。固件上的频率调谐参数可进行定制,以确保在各种真空室结构和工艺方法下的可重复运行。
优势 | 特点 |
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可下载文献
HFV Variable-Frequency (˜2 MHz) Generators data sheet
Signal Integrity for Vacuum Processing Systems (2003) white paper
Advanced Energy RF Calibration Process (2002) white paper
The Evolution of RF Power Delivery in Plasma Processing (2001) white paper
Forward and Reflected Powers. What Do They Mean? (2001) white paper
Introducing Power Supplies and Plasma Systems (2001) white paper
Fabs can ride through voltage sags with power-quality targets, July 2004 magazine reprint
RF Power Fundamentals Course data sheet
AE Global Services brochure
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