Advanced Energy Copyright 2019 Advanced Energy Ascent AP (Advanced Pulsing) DC Power Supplies
ASCENT® AP(先进脉冲)电源
Photo of Ascent(R) AP DC power supply
前所未有的单/双极脉冲磁控溅射电源

2013年,AE® 通过采用双极性脉冲直流技术为双极磁控溅射带来了新的技术革新,提供了前所未有的等离子体控制技术。Ascent AP电源在紧凑的单/双极磁控溅射方案中引入了额外的控制参数,使得功率输出更加优化。Ascent AP具有专利的脉冲技术,可以主动抑制电弧,其广泛的工作范围使得该电源可以应用于许多材料,拓展了制程的灵活性以及材料的不断创新。

 
优势 特点
  • 电介质膜和导电膜的精准溅射
  • 提供单磁控和双磁控配置
  • 增加制程控制的灵活性与创新性
  • 高性能的薄膜质量和产量
  • 镀膜重复性好,且满足多项定制要求
  • 更高功率等级,更少电弧损坏
  • 易于集成与控制
  • 输出波形可自定义,满足多种功率输出要求
  • 专利脉冲技术可以抑制消除电弧,保证更高功率输出,提高产能
  • 紧凑型单机解决方案(最大 30 kW)
  • Set point compensation™ 技术确保稳定的功率输出
  •  应用于各种制程材料的广泛工作范围

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